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LSCE-800接触式曝光机

LSCE-800接触式曝光机指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触,曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高,设备简单,线宽可达800nm;可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻;适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。可广泛应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。

  • 用途:接触式曝光指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高,设备简单;
    1.半导体制造;
    2.光电电子、平板;
    3.射频微波,衍射光学;
    4.微机电系统;
    5.凹凸或覆晶设备等。
  • 主要规格:线宽可达800nm;可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻;
  • 适用晶片尺寸:样品尺寸不能大于6英寸。
  • 产品特点:
    1.分辨率准确;
    2.更广范围的紫外光波长选择;
    3.支持恒定光强或恒定功率模式;
    4.广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。



  • 仪器详细参数:


  • 尺寸:170 cm*130 cm*180 cm
LSCE-800接触式曝光机
LSCE-800接触式曝光机指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触,曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高,设备简单,线宽可达800nm;可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻;适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。可广泛应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。
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