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LSMS 160磁控溅射镀膜机

LSMS-160磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。可广泛应用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜,可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。

  • 用途:用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜,可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。
  • 主要规格:可依序进行6个靶材的溅镀;同时进行2个靶材的溅镀;可溅镀范围4英寸以内;真空度8×10 -8torr,厚度均匀性误差<±5%,溅镀数微米以下的。
  • 适用晶片尺寸:样品尺寸不能大于6英寸;
  • 可溅镀的材料:金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta;合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、FeMn、TbFeCo;氧化物类MgO等。






用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜,可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。



溅镀膜厚测试

LSMS 160磁控溅射镀膜机
LSMS-160磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。可广泛应用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜,可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。
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