176-3813-1992
一种用于制造集成电路的装置，可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。广泛应用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。
晶片尺寸：4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
曝光光源：UV-LED
所用光源波长：365 nm
分辨率：依次开发500 nm、400 nm、300 nm
对焦精度：150 nm
缩放倍率：1:5
曝光方式：步进投影式
特征尺寸均匀性（CDU）：±10%
复制产品链接
长按图片保存/分享
询盘
咨询表单：
咨询内容：
你还没有添加任何产品
询盘
咨询表单：
咨询内容：
你还没有添加任何产品
CONTACT 
电话：176-3813-1992（同微信）
邮件：lsgdjs@lsgdjs.cn
网址：www.lsgdjs.com.cn
地址：中国·郑州市·郑东新区·中原科技城创新孵化基地C栋4层
相关链接
关注我们
雷神光电技术研究院 Copyright © 2019 All rights reserved
电话：176-3813-1992
邮件：lsgdjs@lsgdjs.cn / ls1@lsgdjs.cn
地址：中国·郑州市·郑东新区·中原科技城创新孵化基地C栋4层
雷神光电技术研究院 Copyright © 2019 all rights reserved
客服1
