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LSLM-500步进式光刻机

LSLM-500步进式光刻机是一种用于制造集成电路(IC)的装置,其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件,是复杂工艺的重要组成部分。

  • 用途:步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。
  • 主要规格:可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光;线宽:达500nm;可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻;
  • 适用晶片尺寸:样品尺寸不能大于6英寸。
  • 可溅镀的材料:金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta;合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、FeMn、TbFeCo;氧化物类MgO等。
  • 尺寸170 cm*130 cm*180 cm





  • 产品特点
    高精准度;
    桌上型、体积小、内建计算机;
    可客制化硬件与软件,以符合业界需求;
    弹性适用于各种基底与形状。


  • 应用领域
    中小规模集成电路;
    半导体元器件;
    声表面波器件的研制和生产;


  • 详细参数




LSLM-500步进式光刻机
LSLM-500步进式光刻机是一种用于制造集成电路(IC)的装置,其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件,是复杂工艺的重要组成部分。
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